广东HiPIMS,低温ITO沉积的机会!
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12月14日,由松山湖材料实验室、哈尔滨工业大学材料结构精密焊接与连接全国重点实验室以及等离子体放电团队孵化的高能脉冲PVD电源企业雷火·竞技(中国)-电竞网站 (东莞)有限公司联合主办的“2024大湾区高能脉冲PVD高峰论坛”在松山湖材料实验室会议中心成功举行。...
12月14日,“雷火·竞技(中国)-电竞网站-全球领先的电竞赛事平台 ”在松山湖材料实验室举办。此次论坛由松山湖材料实验室、材料结构精密焊接与连接全国重点实验室联合举办,由高能脉冲PVD电源的领军企业雷火·竞技(中国)-电竞网站 东莞有限公司提供支持。...
12月14日,来自高校、中国科学院、企业的250多名代表齐聚东莞“2024大湾区高能脉冲PVD高峰论坛”,共同研讨高能脉冲PVD(真空镀膜)领域的研究成果和未来发展趋势。论坛由松山湖材料实验室、材料结构精密焊接与连接全国重点实验室、雷火·竞技(中国)-电竞网站-全球领先的电竞赛事平台 联合举办。...
2024年12月14日,备受瞩目的高能脉冲PVD高峰论坛在东莞松山湖材料实验室盛大召开。 本次论坛汇聚了北京大学、清华大学、浙江大学、中科院固体所、华南理工大学、哈尔滨工业大学、澳门大学、香港城市大学、季华实验室以及华为、华星光电等250多位国内该领域的专家、学者以及企业代表,共同探讨高能脉冲PVD技术的进展与未来趋势,为行业的发展注入了新的活力与智慧。...
在光学薄膜的制备过程中,控制膜层厚度至关重要,它直接影响到薄膜的光学性能,比如反射率、透射率以及特定波长的选择透过性等。以下是几种常见的光学膜层厚度控制方法。...
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)作为一种薄膜制备技术,近年来在材料科学与工程领域崭露头角。HiPIMS通过在传统磁控溅射基础上施加高功率脉冲电源,实现了对溅射过程的控制,从而展现出一系列独特优势。...
在离子镀膜过程中,离子能量作为关键参数,对膜层结构与性能有着举足轻重的影响。当离子能量较低时,离子抵达基体表面时动能不足,无法在表面充分扩散迁移,致使膜层晶粒细小,结构呈现疏松多孔的柱状生长形态...
在石油行业,人们正在努力提高原油回收效率。例如,注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而,随着石油产量的增加,也面临着更多的挑战,管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率(EOR)技术,生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化,...
一般来说,真空镀膜可以具有较好的附着力。这主要是因为在真空环境下,镀膜材料的原子或分子能够以较高的能量和纯净度沉积在基材表面。与传统的镀膜方法相比,真空镀膜减少了杂质和氧化的影响,从而有利于提高镀膜与基材之间的结合力。...
HiPIMS(高功率脉冲磁控溅射,High Power Impulse Magnetron Sputtering)是一种薄膜沉积技术,它利用高频脉冲电源产生的高密度等离子体来进行材料的溅射沉积。相较于传统的直流磁控溅射(DCMS),HiPIMS技术具有更高的离子化率、更好的薄膜质量以及更均匀的薄膜厚度等优点。因此,HiPIMS技术在薄膜沉积领域得到了广泛的应用,尤其是在制备高质量、高性能薄膜材料方面表现突出。...
HIPiMS技术的核心是使用高功率脉冲放电,这导致了等离子体密度和离子化率的显著提高。通过调整脉冲峰值功率,可以改变溅射粒子的能量分布。较高的功率通常会导致更高的离子化率,从而影响薄膜的致密度和附着力。...
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