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光学膜层厚度的控制方法

在光学薄膜的制备过程中,控制膜层厚度至关重要,它直接影响到薄膜的光学性能,比如反射率、透射率以及特定波长的选择透过性等。以下是几种常见的光学膜层厚度控制方法。

高功率脉冲磁控溅射HiPIMS的独特优势与多样化应用

高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)作为一种薄膜制备技术,近年来在材料科学与工程领域崭露头角。HiPIMS通过在传统磁控溅射基础上施加高功率脉冲电源,实现了对溅射过程的控制,从而展现出一系列独特优势。

纳米镀膜关键技术难点有哪些?

    纳米镀膜技术以其独特的优势在众多领域展现出广阔的应用前景,然而,其发展过程中也面临着诸多关键技术难点。

离子镀膜离子能量怎样影响膜层?

在离子镀膜过程中,离子能量作为关键参数,对膜层结构与性能有着举足轻重的影响。当离子能量较低时,离子抵达基体表面时动能不足,无法在表面充分扩散迁移,致使膜层晶粒细小,结构呈现疏松多孔的柱状生长形态

HiPIMS技术制备纯金属薄膜时,靶材的选择需要考虑哪些因素?

HiPIMS 技术制备纯金属薄膜时,靶材的选择需综合考量多方面因素。