高功率脉冲磁控溅射HiPIMS的独特优势与多样化应用
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)作为一种薄膜制备技术,近年来在材料科学与工程领域崭露头角。HiPIMS通过在传统磁控溅射基础上施加高功率脉冲电源,实现了对溅射过程的控制,从而展现出一系列独特优势。
离子镀膜离子能量怎样影响膜层?
在离子镀膜过程中,离子能量作为关键参数,对膜层结构与性能有着举足轻重的影响。当离子能量较低时,离子抵达基体表面时动能不足,无法在表面充分扩散迁移,致使膜层晶粒细小,结构呈现疏松多孔的柱状生长形态
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)作为一种薄膜制备技术,近年来在材料科学与工程领域崭露头角。HiPIMS通过在传统磁控溅射基础上施加高功率脉冲电源,实现了对溅射过程的控制,从而展现出一系列独特优势。
在离子镀膜过程中,离子能量作为关键参数,对膜层结构与性能有着举足轻重的影响。当离子能量较低时,离子抵达基体表面时动能不足,无法在表面充分扩散迁移,致使膜层晶粒细小,结构呈现疏松多孔的柱状生长形态