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双脉冲HiPIMS比传统HiPIMS沉积速率提高近3倍

一种新型的高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术，即放电由脉宽短、电压高的引燃脉冲和脉宽长、电压低的工作脉冲2部分组成的双脉冲高功率脉冲磁控溅射技术，目的是解决传统高功率脉冲磁控溅射沉积速率低的问题。

真空电源从“Nokia”到“Iphone”

2023中国真空镀膜行业发展趋势高峰论坛圆满落下帷幕

脉冲磁控溅射的工作原理和工作方式

脉冲磁控溅射是采用矩形波电压的脉冲电源代替传统直流电源进行磁控溅射沉积。脉冲磁控溅射技术可以有效的抑制电弧产生进而消除由此产生的薄膜缺陷，同时可以提高溅射沉积速率，降低沉积温度等一系列显著优点。

公司技术支撑团队有7篇文章选登《中国表面工程》杂志“高离化磁控技术与应用”专刊

公司技术支撑团队有7篇文章选登《中国表面工程》杂志“高离化磁控技术与应用”专刊，彰显雷火·竞技(中国)-电竞网站 在高功率磁控溅射方面有较多的技术积累。

溅射镀膜的原理

自1852年，格洛夫发现阴极溅射现象，对于溅射技术的运用便逐步发展起来，从上世纪80年代至今，磁控溅射技术在表面工程领域占据举足轻重的地位。磁控溅射技术可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜，以及各种具有特殊功能的薄膜，是一种十分有效的薄膜沉积方法。

真空蒸镀法与溅射镀膜技术介绍

真空蒸镀法与溅射镀膜技术不同区别的介绍
一、真空蒸镀法
真空蒸镀是将装有基片的真空室抽成真空,然后加热被蒸发的镀料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸气流,入射到基片表面,凝结形成固体薄膜的技术.

真空镀膜工艺流程

真空镀膜是一种常见的表面处理工艺，常用于制造光学镜片、太阳能电池板、LED等产品。其主要流程包括以下几个步骤：

1. 基材清洗：将待处理的基材表面进行清洗，以去除表面的油污、灰尘等杂质，确保表面干净。